良品率堪憂！英特爾10nm工藝跳票至2019年

原標題：良品率堪憂！英特爾10nm工藝跳票至2019年

從1999年的180nm工藝開始，英特爾一直保持著每兩年更新一次工藝的步伐。然而在2015年7月，英特爾承認原計劃在2016年問世的10nm將跳票至2017年下半年。不過結果顯而易見，至今我們也沒有見到10nm大規模量產。

英特爾10nm工藝跳票至2019年

對此，英特爾一直沒有公開解釋10nm一再跳票的原因。但有消息稱，由於10nm工藝電晶體密度超高，需要使用多重曝光技術，有些時候不得不使用五重乃至是六重曝光，這就導致生產流程加長、成本加高，因此良品率令人堪憂。

英特爾CEO科再奇表示，他們目前正在小批量出貨10nm晶片，並且良品率也在不斷改善，隻不過改善速度並未達到預期，因此10nm工藝的大規模量產將遲到2019年。

至於是2019年上半年還是下半年，科再奇並未給出具體的答覆，但他表示英特爾會竭盡所能加快速度，隻要良品率達標就會儘快量產。

本文來源：http://tech.ifeng.com/a/20180430/44976472_0.shtml